Depósito de películas de polianilina con patrones mediante polimerización in situ confinada en capilares.

Alvarado Tenorio, Germán y Reyes Betanzo, Claudia y Sepúlveda Guzmán, Selene y Agarwal, Vivechana y Cruz Silva, Rodolfo (2008) Depósito de películas de polianilina con patrones mediante polimerización in situ confinada en capilares. Ingenierías, 11 (39). pp. 8-14. ISSN 1405-0676

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Resumen

En este trabajo se propone un método para depositar polianilina en patrones definidos sobre sustratos de silicio, combinando las técnicas de micromoldeo en capilares (MIMIC) y polimerización química in situ de anilina.

Tipo de elemento:

Article

Palabras claves no controlados:

Micromoldeo, Capilaridad, Polidimetilsiloxano, Polianilina, Patrones

Materias:

T Tecnología > TP Tecnología Química

Divisiones:

Ingeniería Mecánica y Eléctrica

Usuario depositante:

Editor Repositorio

Creadores:

Creador	Email	ORCID
Alvarado Tenorio, Germán	NO ESPECIFICADO	NO ESPECIFICADO
Reyes Betanzo, Claudia	NO ESPECIFICADO	NO ESPECIFICADO
Sepúlveda Guzmán, Selene	NO ESPECIFICADO	NO ESPECIFICADO
Agarwal, Vivechana	NO ESPECIFICADO	NO ESPECIFICADO
Cruz Silva, Rodolfo	NO ESPECIFICADO	NO ESPECIFICADO