Depósito de películas de polianilina con patrones mediante polimerización in situ confinada en capilares.

Alvarado Tenorio, Germán y Reyes Betanzo, Claudia y Sepúlveda Guzmán, Selene y Agarwal, Vivechana y Cruz Silva, Rodolfo (2008) Depósito de películas de polianilina con patrones mediante polimerización in situ confinada en capilares. Ingenierías, 11 (39). pp. 8-14. ISSN 1405-0676

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Resumen

En este trabajo se propone un método para depositar polianilina en patrones definidos sobre sustratos de silicio, combinando las técnicas de micromoldeo en capilares (MIMIC) y polimerización química in situ de anilina.

Tipo de elemento: Article
Palabras claves no controlados: Micromoldeo, Capilaridad, Polidimetilsiloxano, Polianilina, Patrones
Materias: T Tecnología > TP Tecnología Química
Divisiones: Ingeniería Mecánica y Eléctrica
Usuario depositante: Lic. Jesús E. Alvarado
Creadores:
CreadorEmailORCID
Alvarado Tenorio, GermánNO ESPECIFICADONO ESPECIFICADO
Reyes Betanzo, ClaudiaNO ESPECIFICADONO ESPECIFICADO
Sepúlveda Guzmán, SeleneNO ESPECIFICADONO ESPECIFICADO
Agarwal, VivechanaNO ESPECIFICADONO ESPECIFICADO
Cruz Silva, RodolfoNO ESPECIFICADONO ESPECIFICADO
Fecha del depósito: 14 Mar 2019 23:15
Última modificación: 14 Mar 2019 23:15
URI: http://eprints.uanl.mx/id/eprint/10381

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