Caracterización estructural y química de Siliciuros de Co-Ni preparados ablación de láser pulsado: un estudio experimental y teórico

García Méndez, Manuel (2003) Caracterización estructural y química de Siliciuros de Co-Ni preparados ablación de láser pulsado: un estudio experimental y teórico. Ciencia UANL, 6 (4). ISSN 1405-9177

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Resumen

Por medio de la técnica de depósito de láser pulsado (PLD), se prepararon películas delgadas de Co- Ni/p-Si depositadas sobre sustratos de Si (100). Las muestras se sometieron a tratamientos térmicos en vacío para promover la formación de siliciuros. De los análisis realizados con XPS se detectaron corrimientos químicos para las transiciones del Co2p y Si2p, las cuales son energías de enlace características de siliciuros, en el rango de 778.3-778.6 eV y 853.2-853.6 eV, respectivamente. Por medio de microscopía electrónica de alta resolución (HRTEM) se identificaron regiones nanocristalinas de estructuras de CoSi2, Ni2Si y NiSi2. Los resultados experimentales se complementan con cálculos teóricos de densidad de estados (DOS). Los cálculos se llevaron a cabo utilizando la Teoría extendida de aproximación de Hückel (EHT).

Tipo de elemento: Article
Palabras claves no controlados: Espectroscopia fotoelectrónica de rayos X, Siliciuros de Co-Ni, Densidad de estados,
Materias: Q Ciencia > QD Química
Divisiones: Ciencias Químicas
Usuario depositante: Admin Eprints
Creadores:
CreadorEmailORCID
García Méndez, ManuelNO ESPECIFICADONO ESPECIFICADO
Fecha del depósito: 04 Mar 2011 16:28
Última modificación: 27 Nov 2014 04:51
URI: http://eprints.uanl.mx/id/eprint/1273

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